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PECVD 工艺参数对 SiOx 薄膜性能的调控机制与优化
光伏技术 #等离子体增强化学气相沉积#氧化硅#太阳能电池#薄膜沉积

PECVD 工艺参数对 SiOx 薄膜性能的调控机制与优化

PECVD 工艺参数对 SiOx 薄膜性能的调控机制与优化 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）通过基底温度、气体配比、Ar 稀释、反应压力和 RF 功率五大参数的协同调控，实现 SiOx 薄膜折射率、表面形貌和致密度的精确控制。本文基于 J. Phys.: Conf. Ser. 1124 022

Administrator Administrator 发布于 2026-08-02