PECVD工艺参数与薄膜性能关系的优化机制与工程实践 1 引言 1.1 PECVD技术背景与产业需求 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是晶硅太阳能电池制造中最核心的薄膜沉积技术。其基本原理：在
原子层沉积 Al₂O₃ 薄膜对单晶硅表面钝化机制的研究 本文基于孙平杨硕士学位论文（大连理工大学，微电子学与固体电子学，导师刘爱民教授），系统阐述原子层沉积（ALD）技术制备 Al₂O₃ 薄膜对单晶硅表面的钝化机制。通过瞬态表面光伏（SPV）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、X 射线衍射（XRD
